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1985年５月
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東京都新宿区に㈱ホロンを設立 資本金33,000千円
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1985年11月
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東京都狛江市にテクニカルセンターを設立
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1986年10月
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電子ビーム微小寸法測定装置(ESPA-11)を開発・発表
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1989年12月
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電子ビーム微小寸法測定装置をモデルチェンジし、ESPA-21を発表
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1992年９月
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電子ビーム微小寸法測定装置をモデルチェンジし、ESPA-31を発表
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1995年12月
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電子ビーム微小寸法測定装置をモデルチェンジし、ESPA-51を発表
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1996年３月
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テクニカルセンターを狛江市から埼玉県所沢市に新設・移転
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1997年12月
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電子ビーム微小寸法測定装置をモデルチェンジし、ESPA-61を発表
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1998年12月
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マスク用電子ビーム微小寸法測定装置EMU-200、-300を開発・発表
ステンシルマスク検査技術(特許)を確立、発表
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1999年１月
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EMU-200を海外に出荷開始
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12月
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磁気ヘッド形状測定装置EMR-100を完成
電子ビーム微小寸法測定装置をモデルチェンジし、ESPA-71を発表
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2000年12月
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マスク用電子ビーム微小寸法測定装置をモデルチェンジし、EMU-220、-330を発表
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2002年９月
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マスク用電子ビーム微小寸法測定装置、海外向けバージョンとしてEMU-220Aを発表
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2003年４月
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EMU-220A、海外に出荷開始
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本社ビル移転(東京都新宿区は変わらず)
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2004年４月
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韓国支店を開設
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10月
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マスク用電子ビーム微小寸法測定装置EMU-250を開発・発表
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2005年２月
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株式会社ジャスダック証券取引所に上場(現 東京証券取引所JASDAQ)
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８月
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マスク用電子ビーム微小寸法測定装置EMU-270を開発・発表
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2006年11月
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LED(発光ダイオード)生産用パターン転写装置電子スタンパーEBLITHOを開発・発表
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2009年１月
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マスク用電子ビーム微小寸法測定装置EMU-270Aを開発・発表
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７月
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本社を東京都新宿区から埼玉県所沢市に移転
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８月
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NEDO助成事業に２件採択「電子ビーム式次世代パターン高速検査装置の開発」「シームレスモールドステッパー製作とその実デバイス量産性能評価」
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2010年11月
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EMUシリーズをモデルチェンジし、Z7を発表
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12月
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ロールモールド評価用SEM（Roll-SEM）を開発
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2011年２月
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nano tech大賞2011 微細加工技術部門賞を受賞（Roll-SEM）
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2013年５月
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NEDO助成事業に採択「大気開放型SEMを組み込んだ大型ロール検査装置の開発」
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11月
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EDS分析のLEXa-7を発表
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2014年５月
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NEDO助成事業に採択「NILナノパターンの観察計測ができる高分解能CD-SEMの開発」
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2015年12月
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ウエハ用CD-SEM ESPA-3000シリーズを開発・発表
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2016年３月
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品質マネジメントシステムISO9001認証取得
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2017年１月
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デバイス用マスクCD-SEMをモデルチェンジし、ZXを発表・発売開始
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フォトマスク用DR-SEMの高機能版LEXa-10HRを発表
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2018年６月
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株式会社エー・アンド・デイの連結子会社となる
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