機械 <6266> タツモ株式会社 研究開発活動

５【研究開発活動】

　当社グループの研究開発活動は、当社のプロセス機器事業において、継続的な技術革新・新製品の開発と、顧客の要求・依頼事項に対応するための技術開発を中心に行っております。

　半導体関連としては、塗布装置、ＴＳＶプロセス装置、枚葉洗浄装置などの半導体プロセス装置、新規ウェーハ搬送機構やナノインプリント関連装置の開発をしており、早期に収益事業として確立してまいります。

　半導体事業・液晶から培ったコア技術をベースに、製造装置の開発を今後も継続してまいります。

　なお、当連結会計年度の研究開発費は、プロセス機器事業の装置の開発を中心に374百万円となっております。